樱桃树苗覆膜技术是怎样的

樱桃树苗进行覆膜的时候，具体是怎么来覆膜更好一些，作为山东大樱桃苗批发基地，让小编带大家共同了解一下！

对于樱桃树苗，覆膜时间应为12月底至1月上旬。 覆膜后，尽量不要急于升温。 继续增加需要低温樱桃树苗5~7天后才开始逐渐升温。 但温度不宜过快，温度不宜过高，否则容易出现先叶后花雌蕊先出的现象。 有取暖设备，不要经常取暖，特别注意夜间温度不宜过高。 在自然条件下，如果棚体保温措施有效，可以满足棚温要求。 只有在遇到特殊天气，如低温，霜冻时，才停止人工辅助升温。

覆膜时间应在甜樱桃自然休眠结束后进行。甜樱桃的自然休眠温度在7.2 °c 以下，650ー1440小时后。一般来说，地膜覆盖的适宜时间是12月下旬和次年1月上旬左右。在设施栽培中，地膜覆盖应满足甜樱桃的降温能力要求。在缺乏管理技术和条件的情况下，切记不要盲目追赶，地膜覆盖过早，即使在生长发育条件下，大樱桃幼苗也不能正常生长，但是低温、开花期过长，开花不规律，增加了技术难度和管理强度，整体效益不理想。